2025年5月15日-17日，由浙江大學材料科學與工程學院主辦、浙江省材料研究學會協辦的第七屆材料微結構與性能學術會議在杭州成功舉辦。本屆會議聚焦 “材料顯微結構、電池與催化、光電材料與器件、材料計算與人工智能” 四大核心領域，吸引了來自國內外高校、科研院所及企業的千余名專家學者共襄盛舉。

CIF攜等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機參加驚艷亮相！深度探討“材料顯微結構、電池與催化、光電材料與器件、材料計算與人工智能”等專題中的熱點、重點、難點和發展趨勢等問題。交流相關研究成果與學術思想，產學研等前沿應用，促進材料學科建設與人才培養。

我司的展位憑借智能化、高精度、多場景適配的產品特性，吸引了眾多高校科研團隊、企業技術骨干及行業專家駐足交流。

  在本次展會上，CIF展示的等離子清洗機采用等離子體技術，能夠有效去除材料表面的污染物，顯著提高工件表面的親水性。該設備在微電子、半導體、新能源等領域具有廣泛應用，為行業提供了高效、環保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機同樣備受關注。它利用紫外線和臭氧的協同作用，對材料表面進行深度清潔，可有效去除光刻膠殘留和有機物污染，特別適用于對表面潔凈度要求高微電子制造和光學器件生產等行業。

  勻膠機和烤膠機也展現出性能。勻膠機能夠精確控制涂覆厚度，確保材料表面均勻覆蓋，為后續工藝提供穩定基礎。烤膠機則具備快速升溫、精準控溫等特點，可滿足不同材料和工藝的烘烤需求，廣泛應用于芯片制造、印刷電路板等領域。

  在本次展會上，CIF展示的等離子清洗機采用的等離子體技術，能夠有效去除材料表面的污染物，顯著提高工件表面的親水性。該設備在微電子、半導體、新能源等領域具有廣泛應用，為行業提供了高效、環保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機同樣備受關注。它利用紫外線和臭氧的協同作用，對材料表面進行深度清潔，可有效去除光刻膠殘留和有機物污染，特別適用于對表面潔凈度要求的微電子制造和光學器件生產等行業。

  勻膠機和烤膠機也展現出性能。勻膠機能夠精確控制涂覆厚度，確保材料表面均勻覆蓋，為后續工藝提供穩定基礎?？灸z機則具備快速升溫、精準控溫等特點，可滿足不同材料和工藝的烘烤需求，廣泛應用于芯片制造、印刷電路板等領域。